半導體專用氫氣發生器技術優勢
半導體專用氫氣發生器技術優勢：
1、程序控制：儀器的全部工作過程均由程序控制。自動指示壓力、流量，并實現自動恒壓、恒流。氫氣流量可根據用量實現0-1000ml/min的全自動調節。
2、產氫濕度低：采用膜分離技術及有效的除濕裝置，降低了原始濕度。同時，采用兩級吸附，使氫氣濕度達到露點溫度-56℃。
3、操作方便：無需運輸鋼瓶，省去了搬運鋼瓶的麻煩。使用時只需旋緊電源開關，即可開始產氫。
4、可連續使用，也可間斷使用，產氣量穩定，不衰減，安全可靠：配備安全裝置，靈敏可靠。
半導體專用氫氣發生器
半導體專用氫氣發生器膜電解技術特點：
1、膜電解技術比其他產氫技術更好，因為所產氫氣更干凈，維護少，且無需儲備化學試劑來維護操作。只需純水(條件不夠時，考慮蒸餾水或去離子水)，即可長時間運行。
2、與其他需要使用腐蝕性溶液來產生氫氣的氫氣發生器相比，PGH2系列所采用的膜電解技術具有明顯優勢。腐蝕性溶液中的污染物會影響所產出氫氣的純度，也會使儀器過早退化變質。而膜電解技術不需要浪費時間在儲存腐蝕性溶液上，只需定期加水進行日常維護即可。
3、電解過程是通過電解水產生純凈的氫氣(副產物為氧氣)。關鍵部件是內部裝有固態膠體電解質的電化學池。無需任何酸和堿。與該電化學池接觸的只有純水(條件不夠時，考慮蒸餾水或去離子水)。由于水會被消耗掉，因此需要定期加水。
4、發生器所產生的氫氣在氫氣/水池中和干燥腔中聚集。壓力變送器控制氣體壓力，并由鍵盤進行調節。輸出壓力可通過LCD顯示。氫氣通過干燥管和裝滿干燥劑的干燥柱中被干燥。然后，氫氣通過限流閥和輸出管道從儀器的后面輸出。
